Non-aqueous routes to metal oxide thin films by atomic layer deposition

palavras-chave

HAFNIUM DIOXIDE FILMS; VAPOR-DEPOSITION; FORMATION MECHANISMS; ALKOXIDE PRECURSORS; GATE DIELECTRICS; WATER; NANOPARTICLES; CHEMISTRY; SURFACES; CLUSTERS

categoria

Chemistry

autores

Rauwel, E; Clavel, G; Willinger, MG; Rawel, P; Pinna, N

nossos autores

Grupos

Partilhe este projeto

Publicações similares

Usamos cookies para atividades de marketing e para lhe oferecer uma melhor experiência de navegação. Ao clicar em “Aceitar Cookies” você concorda com nossa política de cookies. Leia sobre como usamos cookies clicando em "Política de Privacidade e Cookies".